Szilícium-dioxid részecskeméret szabványok, gyógyszerszállítás
Szilícium-dioxid mikrogömbök Nano-részecskék részecskeméret-szabványok és mikrogyöngyök
A szilícium-dioxid nanorészecskék méretszabványai a szennyeződési ostya szabványokban és a gyógyszerszállításban.
MSDS: szilícium-dioxid mikrogömbök, nanorészecskék
A szilícium-dioxid nanorészecskék szemcseméret-szabványok és gömb alakúak. A szilíciummikroszkópos gyöngyök nagyon pontosak, egyszeresen diszpergáltak, NIST nyomon követhetők, méret-szabványok és 40 nanométertől 2 mikronig (2000 nm) kaphatók. A szilícium-dioxid-részecskéket az 40 nm-től 102 nm-ig etanolban szuszpendáljuk a monodiszperzitás fenntartása érdekében, míg az 105 nm-től 2000 nm-ig terjedő szilícium-dioxid-részecskéket 15ml DI víz oldatban szuszpendáljuk. A szilícium-dioxid-részecskék törésmutatója nagyon közel áll a polisztirol latexgömbökhöz, így a szilícium-dioxid-részecskék hasznosak lehetnek az ostyaellenőrző rendszerekkel, TEM-ekkel és SEM-ekkel történő nagykalibráláshoz nagy teljesítményű lézerek felhasználásával. Szilícium-dioxid részecskeméret-szabványok, amelyeket a gyógyszerek szállításában, valamint a ostya kalibrációs standardok és a szilícium-dioxid-szennyeződés ostya-szabványok előállításához használnak. A szilícium-dioxid mikrogömbök szintén kaphatók 5 gramm és 10 gramm növekményben, vagy az ipar igényeinek megfelelő mennyiségben. Ostya-ellenőrző rendszerek, SSIS, például a KLA-Tencor SP1, a KLA-Tencor SP2, a TopCon, az ADE és a Hitachi ostya-ellenőrző rendszerek használhatják a SiO2 részecskéket a méretkalibráláshoz. A szilícium-dioxid nanoszférákat részecskeméretekben, 40nm-től 2 mikron-ig állítják elő, hogy kalibrálják a megfelelő ostya-ellenőrző rendszerek és a lézer részecskeszámlálók méret-válasz görbéit. A portlandcementet, CMP-szuszpenziókat és gyógyszerkészítményeket szállító iparágak szilícium-dioxid részecskéket használnak az 30nm-től az 2 mikronokig. A szilícium-dioxid mikrogömböket pontos és megismételhető méretű csúcsokké növesztik. A szilícium-dioxid nanorészecskék gömb alakúak és specifikus átmérőre épülnek, ahol a legtöbb egyéb részecske nem gömb alakú és nem egyenletes méretű.
| Termékcím (* méretek hasonlóak a NIST SRM méretekhez) | Folyadékmennyiség (15 ml, 100 ml) | Mean Peak | Méret Egységesség (CV) | Szilícium-dioxid részecskekoncentráció térfogat szerint | 15 ml-es palack | 100 ml-es palack |
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 40 nm etanolban | 15ml vagy 100 ml | 40nm | ≤ 5% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 45 nm etanolban | 15ml vagy 100 ml | 45nm | ≤ 5% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 50 nm etanolban | 15ml vagy 100 ml | 50nm | ≤ 5% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 60 nm * etanolban | 15ml vagy 100 ml | 60nm * | ≤ 5% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 70 nm etanolban | 15ml vagy 100 ml | 70nm | ≤ 5% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 80 nm etanolban | 15ml vagy 100 ml | 80nm | ≤ 5% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 90 nm etanolban | 15ml vagy 100 ml | 90nm | ≤ 5% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 100 nm etanolban | 15ml vagy 100 ml | 100nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 102 nm * etanolban | 15ml vagy 100 ml | 102nm * | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 125 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 125nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 130 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 130nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 140 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 140nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 150 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 150nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 155 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 155nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 160 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 160nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 170 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 170nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 180 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 180nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 190 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 190nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 200 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 200nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 225 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 225nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 250 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 250nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 269 nm * ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 269nm * | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 270 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 270nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 300 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 300nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 325 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 325nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 350 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 350nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 400 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 400nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 450 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 450nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 500 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 500nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 600 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 600nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 700 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 700nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 800 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 800nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 895 nm * ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 895nm * | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 1000 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 1000nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 1019 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 1019nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 1500 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 1500nm | ≤ 3% | 10% | ||
| Szilícium-dioxid nanorészecskék, 2000 nm ionmentes vízben | 15ml vagy 100 ml | 2000nm | ≤ 3% | 10% |
Szilícium-dioxid nanorészecske mint részecskeméret-szabványok és mikrogömbök:
- Megismételhető, tételenként, szilícium-dioxid részecske átmérője
- A mikrogömböket a gyógyszerkészítmények bejuttatásához használják
- A szilícium-dioxid nanorészecskék gömb alakúak és méretük egyenletes
- Tipikus <3% csúcsméret elosztási szélesség 100 nm felett
- 40nm - 2um méretek kaphatók 15ml Di víz és 10% SiO2 koncentrációval
- 40nm - 30um méretek kaphatók száraz szilika nanorészecskék 1Kg-os növekedésével
- Rendkívül nagy méretű tisztaság 99.997 százalékban
- A SiO2 törésmutatója (n = 1.46), nagyon közel áll a polisztirol latexhez (n = 1.585) @ 633nm lézerhullámhossz
- A SiO2 és a PSL gömbök közötti kalibrációs görbék vastagok, lehetővé téve a nagyon pontos SiO2 méretű kalibrálást.
A szilícium-dioxid mikrogyöngyök a részecskeméret szabványok, amelyeket 10%-os koncentrációban, 15 ml-es vagy 100 ml-es palackokban rendelnek. Hívás Applied Physics az 720-635-3931 telefonszámon.
A kromatográfiás célra szolgáló szilikagélt szilikagél alkalmazásával állítjuk elő állófázisban nagy teljesítményű, folyadékkromatográfiás (HPLC), ultra nagy teljesítményű folyadékkromatográfiás (UHPLC) és hidrofil kölcsönhatási kromatográfiás (HILIC) ipari alkalmazásokban. A szilícium-dioxid-mag típusú részecskékről ismert, hogy szűk részecskeméret-eloszlásuk (PSD) miatt nagyobb elválasztási hatékonyságot érnek el, mint a porózus részecskék. Nagy tisztaságú, szűk méretű eloszlási csúcsú, monodiszperziós szilícium-dioxidunk a szűk méreteloszlás miatt javítja a kromatográfiát. A szilícium-dioxid szűk méreteloszlása nagyobb hatékonyságot és következetességet eredményez az ágy és az áramlás egyenletessége miatt. Az ágy egyenletessége csökkenti az üregeket és csökkenti a csatornázást a szilika ágyban, így hosszabb élettartamot és kisebb lemezmagasságot eredményez. A szilícium-dioxid-nanorészecskéket a szilanolcsoportokkal felületre állítják, amelyek normál és HPLC álló fázisokban támogatják a HILIC-t. Szilícium-dioxidunkat nyersanyagként szállítjuk egy nem-polarizált, funkcionalizált felület, C18, C8 stb. Létrehozásához fordított fázisú HPLC-vel. Hívja a szükséges méretet a magas nanaométertől az alacsonyabb mikronméretig.
Ipari alkalmazások:
- Szilícium-dioxid nanoszférák és mikrogömbök
- Gyógyszerkészítmények szállítása
- Szilícium-dioxid szennyeződés ostya szabványok
- Hidrofób kvarc és funkcionalizált kovasav
- Polimer töltőanyag
- Nagynyomású, folyadékkromatográfia
- CMP iszap, szilikon ostya polírozása
- Gyógyszerészeti szállítás és mezopórusos szilícium-dioxid nanorészecskék (MSN)
- Vékony film, napelem gyártása
- Nanokompozitok
- SSIS (pásztázó felület-ellenőrző rendszerek) és az aeroszol részecske számlálójának kalibrálása
- Nagynyomású, folyadékkromatográfia
- Portlandcement és cementgyártás
Az ostyaellenőrző rendszerek szkennelő felületi ellenőrző rendszerek. Az SSIS eszközök, mint a KLA, a Hitachi és a Topcon Surfscan, szilícium-dioxid részecskékkel kalibrálhatók, mivel a szilika törésmutatója közel áll a polisztirol latex törésmutatójához. Így a PSL gömbök és a szilícium-dioxid nanorészecskék közötti kalibráció hasonló. A szilícium-dioxid nanorészecskék sokkal robusztusabbak a nagy teljesítményű lézereket használó alkalmazásokhoz, mint például a KLA-Tencor SP3, SP5 és SP5xp szeletvizsgáló rendszerek. Szilícium nanorészecskék telefonon rendelhetők Applied Physics a 720-635-3931 telefonszámon. A szilícium-dioxid nanorészecskék törésmutatója közel áll a polisztirol latex gömbök törésmutatójához. A szilícium-dioxid részecskék ellenállnak a nagy teljesítményű lézerek lézerintenzitásának nagy teljesítményének, és a szilícium-dioxid nanorészecskékkel előállított Particle Wafer Standardok még tartósabbak, mint a PSL gömbök esetében. A szilícium-dioxid részecskeméret-szabványok ömlesztett por formájában, funkcionalizált szilícium-dioxid vagy hidrofób szilícium-dioxid formájában kaphatók 1 kg és 1000 kg közötti térfogatban, 40 nm és 2 mikron közötti méretben, polimer töltőanyagban való felhasználásra. A méretszabványként használt szilícium-dioxid nanorészecskéket DI vizes oldatba is helyezik 15 ml térfogatban és 10%-os koncentrációban 40 nm és 2 mikron közötti méretben. A szilícium-dioxid nanorészecskék használata az SSIS méretkalibrációhoz és a Laser Particle Counter, LPC, méretkalibrációhoz kiváló, mert a szilícium-dioxid részecskék mérete nem csökken, ha nagyteljesítményű lézerrel, amelyet ma az SSIS és LPC műszerekben használnak, méretkalibrálásra szkenneljük. Az SIO2 részecskeméretek általában az SSI -khez és az LPC kalibrálásához 32 nm, 40 nm, 50 nm, 60 nm, 70 nm, 80 nm, 100 nm, 125 nm, 150 nm, 200nm 250nm, 300nm, 400nm, 500m, 600m, 750m, 800m, 1000mm. A szilícium-dioxid-részecskéket a gyógyszerészeti gyógyszerszállításban is használják.
A szilícium-dioxid részecskeméretre vonatkozó szabványok és a gyógyszerek kiszállítása Applied Physics Inc. Szilícium-dioxid részecskeméret-szabványok és gyógyszerszállítás Applied Physics Inc.
Kapcsolódó termékek
-
Szilícium-dioxid nanorészecskék 270nm-en 100ml ionmentesített vízben
$1,495.00 Kérjen árajánlatot vagy adja hozzá a rendeléshez -
Szilícium-dioxid nanorészecskék 180nm-en 100ml ionmentesített vízben
$1,495.00 Kérjen árajánlatot vagy adja hozzá a rendeléshez -
Szilícium-dioxid nanorészecskék 269nm * -nél, 100ml ionmentesített vízben
$1,495.00 Kérjen árajánlatot vagy adja hozzá a rendeléshez -
Szilícium-dioxid nanorészecskék 60nm * -nél 100ml etanolban
$1,495.00 Kérjen árajánlatot vagy adja hozzá a rendeléshez
